[发明专利]生产具有改善的载流子寿命的基底的方法无效
申请号: | 200780027337.X | 申请日: | 2007-07-17 |
公开(公告)号: | CN101490315A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | G·钟;M·罗伯达 | 申请(专利权)人: | 陶氏康宁公司 |
主分类号: | C30B25/02 | 分类号: | C30B25/02;C30B29/36 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张 钦 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及在基底上沉积碳化硅材料的方法,使得所得基底具有0.5-1000微秒的载流子寿命,所述方法包括:a.将包括氯代硅烷气体、含碳气体和氢气的气体混合物引入到含有基底的反应室中;和b.将基底加热到大于1000℃但小于2000℃的温度;条件是反应室内的压力保持在0.1-760托的范围内。本发明还涉及在基底上沉积碳化硅材料的方法,使得所得基底具有0.5-1000微秒的载流子寿命,所述方法包括:a.将包括非氯化的含硅气体、氯化氢、含碳气体和氢气的气体混合物引入到含有基底的反应室中;和b.将基底加热到大于1000℃但小于2000℃的温度;条件是反应室内的压力保持在0.1-760托的范围内。 | ||
搜索关键词: | 生产 具有 改善 载流子 寿命 基底 方法 | ||
【主权项】:
1. 在基底上沉积碳化硅涂层的方法,使得所得涂层具有0.5-1000微秒的载流子寿命,所述方法包括:a. 将包括氯代硅烷气体、含碳气体和氢气的气体混合物引入到含有基底的反应室中;b. 将基底加热到大于1000℃但小于2000℃的温度;条件是反应室内的压力保持在0.1-760托的范围内。
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