[发明专利]确定光学表面的实际形状偏离理想形状的偏差的方法和装置有效
| 申请号： | 200780027739.X | 申请日： | 2007-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN101495833A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | F·席尔科;R·弗赖曼;M·德雷埃尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程 伟;王锦阳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种确定光学表面(12；103)的实际形状偏离理想形状的偏差的方法，包括如下步骤：提供入射电磁测量波(20；113)，提供两个衍射结构(47，49；145，146，141，143)，在每种情况下，所述两个衍射结构被设计为重塑入射波的波前，通过辐射入射测量波(20；113)到至少一个待标定的衍射结构，标定两个衍射结构(47，49；145，146，141，143)中的至少其中之一，以及在测量波和至少一个待标定的衍射结构(47；49；145，146，141，143)相互作用后，确定测量波(20；113)的实际波前偏离理想波前的标定偏差，将两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)设置于入射测量波(20；113)的光路中，从而测量波的各条光线辐射通过两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)，以及通过两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)将入射测量波(20；113)重塑为匹配的测量波(64；114)，其波前匹配光学表面(12；103)的理想形状，在匹配的测量波(64；114)的光路中设置光学表面(12；103)，从而匹配的测量波(64；114)和光学表面(12；103)相互作用，以及在匹配的测量波(64；114)和光学表面(12；103)相互作用之后，测量匹配的测量波(64；114)的波前。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 光学 表面 实际 形状 偏离 理想 偏差 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种具有光学表面的光学元件，该光学表面具有非球面的理想形状，以及光学表面的实际形状偏离理想形状最大0.2nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份公司，未经卡尔蔡司SMT股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780027739.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
