[发明专利]关于N维数据的离子检测和参数估计有效

专利信息
申请号: 200780027914.5 申请日: 2007-05-25
公开(公告)号: CN101534933A 公开(公告)日: 2009-09-16
发明(设计)人: M·V·戈伦斯泰恩;G·李 申请(专利权)人: 沃特世科技公司
主分类号: B01D59/44 分类号: B01D59/44
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 柯广华;王忠忠
地址: 美国麻*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用于LC/IMS/MS的方法和设备涉及:从样本获得有噪声的原始数据;将数据与伪像减少滤波器进行卷积;以及在保留时间、离子迁移率和质荷比维定位卷积数据的一个或多个离子峰。
搜索关键词: 关于 数据 离子 检测 参数估计
【主权项】:
1. 一种LC/IMS/MS分析的方法,包括:从样本获得包括三维数据元素的集合的有噪声的原始数据,所述三维数据元素各将离子计数强度与保留时间维、离子迁移率维和质荷比维关联,其中所述噪声与离子峰伪像关联;在所述离子迁移率维中收缩所述数据元素的集合以获得收缩的数据元素的集合,所述收缩的数据元素各将组合的离子计数强度与所述保留时间和质荷比维关联;将所述收缩的数据元素的集合与关联二维矩阵的伪像减少滤波器进行卷积,由此获得具有减少的峰伪像的收缩的数据元素的卷积集合;在所述保留时间和质荷比维定位所述收缩的数据元素的卷积集合的离子峰;响应所述收缩的数据元素的卷积集合的所定位的离子峰而选择所述有噪声的原始数据的一个或多个部分以用于进一步分析;将所述有噪声的原始数据的所选择的一个或多个部分与关联三维矩阵的伪像减少滤波器进行卷积;以及在所述离子迁移率维中对所述原始数据的各卷积部分定位一个或多个离子峰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沃特世科技公司,未经沃特世科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780027914.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top