[发明专利]微阵列系统和用于制备微阵列的方法有效
申请号: | 200780028982.3 | 申请日: | 2007-08-03 |
公开(公告)号: | CN101529227A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 陶谛德;刘文佐;黄建国 | 申请(专利权)人: | 新加坡国立大学 |
主分类号: | G01N21/29 | 分类号: | G01N21/29;C12Q1/68;C07K17/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 林晓红 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于制备微阵列的方法。该方法包括使微珠的群沉积在具有至少一个基准点的基材上的步骤。所述群由至少两个亚群、优选多个亚群组成,每个亚群包含能够与至少一种靶分析物特异性结合的已知活性剂。将所述亚群依次且以彼此分立的时间段沉积。该方法也包括在沉积每个亚群后对基材成像的步骤。随后使用基准点作为参考比较图像从而确定每个微珠的位置,并且旨在基于各图像之间的差异识别所述亚群及其已知活性剂。还披露了使用所述微阵列的系统。 | ||
搜索关键词: | 阵列 系统 用于 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备微阵列的方法,所述方法包括步骤:使微珠群沉积在具有至少一个基准点的基材上,所述的群由至少两个亚群组成,每个亚群包含能够与至少一种靶分析物特异性结合的已知活性剂,其中将所述亚群依次且以彼此分立的时间段沉积;在沉积每个亚群后对所述基材成像;和使用所述基准点作为参考比较所述图像,以确定每个微珠的位置,并基于各图像之间的差异来识别所述亚群及其已知活性剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新加坡国立大学,未经新加坡国立大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780028982.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:散射-反射偏振器及其制造方法
- 下一篇:粉品粒度的特征化装置和它的使用