[发明专利]微阵列系统和用于制备微阵列的方法有效

专利信息
申请号: 200780028982.3 申请日: 2007-08-03
公开(公告)号: CN101529227A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 陶谛德;刘文佐;黄建国 申请(专利权)人: 新加坡国立大学
主分类号: G01N21/29 分类号: G01N21/29;C12Q1/68;C07K17/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 林晓红
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要: 用于制备微阵列的方法。该方法包括使微珠的群沉积在具有至少一个基准点的基材上的步骤。所述群由至少两个亚群、优选多个亚群组成,每个亚群包含能够与至少一种靶分析物特异性结合的已知活性剂。将所述亚群依次且以彼此分立的时间段沉积。该方法也包括在沉积每个亚群后对基材成像的步骤。随后使用基准点作为参考比较图像从而确定每个微珠的位置,并且旨在基于各图像之间的差异识别所述亚群及其已知活性剂。还披露了使用所述微阵列的系统。
搜索关键词: 阵列 系统 用于 制备 方法
【主权项】:
1.一种用于制备微阵列的方法,所述方法包括步骤:使微珠群沉积在具有至少一个基准点的基材上,所述的群由至少两个亚群组成,每个亚群包含能够与至少一种靶分析物特异性结合的已知活性剂,其中将所述亚群依次且以彼此分立的时间段沉积;在沉积每个亚群后对所述基材成像;和使用所述基准点作为参考比较所述图像,以确定每个微珠的位置,并基于各图像之间的差异来识别所述亚群及其已知活性剂。
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