[发明专利]磁检测装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200780032066.7 申请日: 2007-02-07
公开(公告)号: CN101512367A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 佐佐木义人;佐佐木晋一;平山元辉;安藤秀人;青木大悟 申请(专利权)人: 阿尔卑斯电气株式会社
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 刘 建
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,特别地提供一种磁检测元件及其制造方法,使覆盖在绝缘保护层上的抗蚀剂层的形成范围适当,能够在凹凸较小的表面上高精度地形成磁检测元件及连接层,同时能防止上述抗蚀剂层的膜剥离,具有稳定特性。在布线层(35)上隔着上述绝缘保护层(41)重叠地形成抗蚀剂层(42),此外,在上述绝缘保护层(41)上配置上述抗蚀剂层(42)的孔形成面(42b)的下面侧缘部(42b1),并使上述抗蚀剂层(42)不延伸到上述布线层(35)的露出面(35b)。由此,能够在凹凸较小且倾斜平缓的绝缘表面上形成磁检测元件(10)及连接到上述磁检测元件(10)的电极层和引线层(17),同时还能防止上述抗蚀剂层(42)的膜剥离,能获得具有稳定特性的磁检测装置。
搜索关键词: 检测 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1. 一种磁检测装置,具有:磁检测元件,其利用了电阻因外部磁场而变化的磁阻效应;和检测电路,其检测上述磁检测元件的电阻的变化,在基板上形成具有布线层的上述检测电路,用绝缘层覆盖在上述检测电路及上述基板上,上述绝缘层具有:绝缘保护层,其从上述检测电路上形成到上述基板上,并且在上述布线层上的一部分形成了孔;和抗蚀剂层,其重叠在上述绝缘保护层上,并且,在沿膜厚方向与形成在上述绝缘保护层中的上述孔相对置的位置处设置孔,用于减缓由于上述基板和上述检测电路之间的高低不平而产生的、上述绝缘保护层的表面的高低不平,上述抗蚀剂层隔着上述绝缘保护层一直延伸至上述布线层上,上述抗蚀剂层的孔形成面的下面侧缘部配置在上述绝缘保护层上,并使上述抗蚀剂层不直接接触到上述布线层的上面,在上述绝缘层的表面上形成上述磁检测元件,与上述磁检测元件连接的导电性的连接层通过上述孔内、一直被形成到上述布线层的露出面上,通过上述连接层来导通连接上述磁检测元件和上述布线层。
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