[发明专利]以助焊剂润湿半导体芯片凸块的方法及装置无效

专利信息
申请号: 200780034226.1 申请日: 2007-09-11
公开(公告)号: CN101517722A 公开(公告)日: 2009-08-26
发明(设计)人: 鲁埃迪·格吕特尔;多米尼克·韦内;达米安·鲍曼 申请(专利权)人: 欧瑞康封装设备有限公司;施泰因豪森
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/00;B23K1/20;B23K3/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 车 文;安 翔
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及以助焊剂来润湿半导体芯片凸块的方法和装置,其中,能够容纳助焊剂的、向下敞开的容器(4)和包含至少一个凹穴(3)的底板(2)彼此相对地从凹穴(3)一侧往复运动到凹穴(3)另一侧。容器(4)的、沿运动方向来看的前壁(5或6)在相对运动期间被抬高,使得所述前壁保持间距地位于底板(2)上方。所述间距略大于如下的高度差,助焊剂比底板(2)表面水平高度高出该高度差。这种措施使得容器(4)的前壁(5或6)不会将助焊剂从凹穴(3)运送至底板(2)上,迄今为止这一运送过程意味着助焊剂的损耗。
搜索关键词: 焊剂 润湿 半导体 芯片 方法 装置
【主权项】:
1.用来以助焊剂(12)来润湿半导体芯片凸块的方法,在所述方法中,能够容纳所述助焊剂(12)的、向下敞开的容器(4)与包含至少一个凹穴(3)的底板(2)被彼此相对运动,其中,所述容器(4)在所述相对运动期间在所述底板(2)上滑动,并且从所述凹穴(3)的一侧运动到所述凹穴(3)的另一侧,并且在所述方法中,所述半导体芯片的所述凸块被浸入所述凹穴(3)中,其特征在于,所述容器(4)的、沿运动方向来看的前壁在所述相对运动期间被抬高,使得所述前壁保持间距地位于所述底板(2)上方。
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