[发明专利]用于监视介质状况的方法与设备无效
| 申请号： | 200780035031.9 | 申请日： | 2007-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101517398A | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | J·万哈宁;M·林吉奥;P·图尔马;J·科尔皮-托莫拉;K·劳伯格;J·埃尔夫斯特罗姆 | 申请（专利权）人： | 莫文塔斯有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/85 | 分类号： | G01N21/85;G01N21/31;G01N33/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李镇江 |
| 地址： | 芬兰于*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于光的发送/发射来监视通道(33)中介质(50)的状况的方法，其中：设定波长的光被引导通过由测量头(12)中的测量间隙(13.1)定义的介质层，其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)的开口(31)推入的；测量通过介质层的光的强度或者与强度成比例的变量；及根据建立的准则，利用测量电子装置(15)从强度的变化来评估介质的状况。在该方法中，所使用的光波长使得对被监视的介质的老化现象的分辨率最优，而且考虑了介质的温度依赖性与测量变量的关系。此外，本发明还涉及对应的设备(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监视 介质 状况 方法 设备 | ||
【主权项】：
1、一种用于根据光的发送/发射来监视通道(33)中介质(50)的状况的方法，其中-设定波长的光被引导通过由测量头(12)中的测量间隙(13.1)定义的介质层，其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)中的开口(31)推入的，-测量通过介质层的光的强度或者与强度成比例的变量，及-根据所建立的准则，利用测量电子装置(15)从强度的变化评估介质(50)的状况，特征在于在该方法中-所使用的光的波长使得对被监视的介质(50)的老化现象的分辨率是最优的，及-考虑了介质(50)的温度依赖性与测量变量的关系。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于莫文塔斯有限公司，未经莫文塔斯有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780035031.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
