[发明专利]具有反射式光栅的混合平面光波导线路无效

专利信息
申请号: 200780037378.7 申请日: 2007-10-03
公开(公告)号: CN101548212A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 马特·皮尔森;阿斯霍克·贝拉克里施南;瑟奇·比德尼克 申请(专利权)人: 铱诺博伦斯有限公司
主分类号: G02B6/13 分类号: G02B6/13;G02B5/18;G02B6/12;G02B6/136
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人: 郑小粤
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
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摘要: 发明涉及混合平面光波导线路(PLC),其包括波导线路芯片(21),以及通过在波导线路芯片(21)中所形成的槽被安装到波导线路芯片(21)上的硅反射式衍射光栅芯片(29),其中,波导线路芯片(21)包括形成在硅基板(26)上的高光学性能二氧化硅波导结构(22,23,24),硅反射式衍射光栅芯片(29)包括分离的晶片光栅基板(31)和在其中形成的反射式衍射光栅(28)。反射式衍射光栅(28)通过高度精确的深反应离子蚀刻工艺(DRIE)形成于晶片光栅基板(31)中,使得可以制造出高精度的反射式衍射光栅芯片(29)。由此,本发明中的混合平面光波导线路(PLC)包括分离制造的,高精度的,衍射光栅芯片(29)以及分离制造的,高质量的波导结构(22,23,24),衍射光栅芯片(29)被安装于波导结构(22,23,24)上,从而可以在处理衍射光栅芯片(29)中使用新的DRIE技术,以及在进行衍射光栅芯片(29)的安装操作时使用倒装芯片接合。所披露的基于衍射光栅的混合平面光波导线路(PLC)所带来的好处,不仅在于设备可以以与现有混合PLC技术相等同复杂的配置来被制造,更在于设备可以通过使用一种可在非常低的表面粗糙度条件下产生非常高质量纵向蚀刻的技术(DRIE),使得设备的制造更加简单容易。具体的,由于反射式衍射光栅芯片(29)是用硅材料或相类似的材料被分离制造的,DRIE技术就可以被使用,不同于现有的通常排除使用DRIE技术的PLC制造方法的技术。
搜索关键词: 具有 反射 光栅 混合 平面 波导 线路
【主权项】:
1. 一种平面光波导线路PLC器件,其包括:输入口,用于发射输入光束;第一基底上的平板波导,所述平板波导限定上覆层和下覆层之间的核心层,具有在其间形成的向下至所述核心层的槽;设置在第二基底上的反射式衍射光栅,所述反射式衍射光栅被安装在所述槽中,所述槽与用于使所述输入光束衍射的所述输入口光学地耦合;以及第一输出口,其与所述反射式衍射光栅光学地耦合,用于输出由所述反射式衍射光栅改向的所述输入光束的至少一部分;由此所述核心层和所述反射式衍射光栅由不同的材料单独地制成。
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