[发明专利]具有改进性质的多层可成像元件有效
| 申请号： | 200780038955.4 | 申请日： | 2007-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN101528465A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | J·帕特尔;S·萨赖亚;T·陶 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | B41C1/10 | 分类号： | B41C1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林毅斌;韦欣华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材上的内层和外层。所述内层包含两种不同的聚合物基料的组合，其中一种基料的酸值至少为30，所述聚合物组合提供改进的显影后可烘烤性(在更低的温度下更快地烘烤或固化)和理想的数字成像速度而无耐化学品性的损失。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 性质 多层 成像 元件 | ||
【主权项】：
1.一种正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材，且所述基材上依次具有：包含第一和第二聚合物基料的内层组合物，和油墨接受外层，条件是热成像后所述元件的曝光区域可通过碱性显影剂除去，其中所述第一聚合物基料的酸值至少为30并包含含酸基的重复单元，和所述第二聚合物基料包含衍生自N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺、(烷基)丙烯酸烷氧基甲酯或羟甲基(甲基)丙烯酰胺的重复单元。
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