[发明专利]装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200780039256.1 申请日: 2007-11-21
公开(公告)号: CN101529596A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 汤川干央;杉泽希;永田贵章;吉富修平;相泽道子 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/28 分类号: H01L27/28;H01L21/02;H01L21/336;H01L27/10;H01L27/12;H01L29/786;H01L51/05
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 屠长存
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在用于制造柔性存储器件和半导体器件的方法中,在具有分离层的衬底上形成包括元件层和封闭元件层的绝缘层的叠层,并且从分离层分离该叠层。元件层包括存储器元件,存储器元件具有在一对电极之间的包含有机化合物的层、第一电极层和第二电极层,并且使用包含锡的合金层形成一对电极层的至少一层。柔性存储器件和半导体器件包括存储器元件,存储器元件具有在一对电极之间的包含有机化合物的层、第一电极层和第二电极层,并且使用包含锡的合金层形成一对电极层的至少一层。
搜索关键词: 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种包括存储器元件的装置,该存储器元件包括在第一电极层和第二电极层之间的包含有机化合物的层,其中该第二电极层包括包含锡和银的合金。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780039256.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top