[发明专利]电子照相感光构件、制造电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备有效
| 申请号： | 200780039910.9 | 申请日： | 2007-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN101529340A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 大垣晴信;三木宣道;野口和范;小坂宣夫 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/147 | 分类号： | G03G5/147;G03G5/00;G03G5/05 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;闫俊萍 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开一种具有优异的电子照相特性的电子照相感光构件，用于生产该电子照相感光构件的方法，包含该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。所述电子照相感光构件具有表面层，所述表面层包含具有特定重复结构单元的聚合物和含氟原子树脂颗粒。将含氟原子树脂颗粒分散在所述表面层中，以具有接近于一次颗粒的粒径。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 构件 制造 方法 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和在该基底上形成的感光层，所述电子照相感光构件的表面层包含具有各自由下式(1)表示的重复结构单元的聚合物，以及含氟原子树脂颗粒：其中，R1表示氢原子或甲基，R2表示单键或二价基团，Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团，其中在所述聚合物中，70至100个数％的各自由式(1)表示的重复结构单元由下式(1-1)至(1-6)中的至少之一表示：其中，R1表示氢原子或甲基，R20表示单键或亚烷基，R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基，R22表示-R21-基或-O-R21-基，R23表示-Ar-基、-O-Ar基或-O-Ar-R-基，其中Ar表示亚芳基，R表示亚烷基，Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团，Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基，Rf12表示用氧中断的氟烷基，Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。
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