[发明专利]使用影响上气道中的舌和软腭/腭垂的磁力系统的设备、系统和方法无效
| 申请号： | 200780040382.9 | 申请日： | 2007-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101528162A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | J·帕拉斯查克;R·P·鲍彻;E·M·吉利斯;A·W·克雷默;S·A·麦吉尔;L·M·纳尔逊;A·D·托马斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61F5/56 | 分类号： | A61F5/56;A61F5/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王 英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 系统和方法阻止舌和软腭/腭垂在睡眠期间的后移，从而保持气道开放。所述系统和方法采用第一、第二和第三结构。使第一结构的尺寸和构型适于放置在舌之内或之上。使第二结构的尺寸和构型适于放置在软腭或腭垂区之内或之上。使第三结构的尺寸和构型适于以期望关系放置在第一和第二结构前的组织之内或之上。第一和第二结构中的每一个包括铁磁材料。第三结构包括通过吸引第一和第二铁磁材料这两者而与第一和第二铁磁材料两者进行磁相互作用的磁性材料，从而阻止舌和软腭/腭垂两者的后移。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 影响 上气道 中的 软腭 磁力 系统 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种系统，包含：其尺寸和构型适于放置在舌之内或之上的第一结构，所述第一结构包括铁磁材料，其尺寸和构型适于放置在软腭或腭垂区之内或之上的第二结构，所述第二结构包括铁磁材料，以及其尺寸和构型适于以期望关系放置在所述第一和第二结构前部的组织之内或之上的第三结构，所述第三结构包括通过吸引所述第一和第二铁磁材料这两者而与所述第一和第二铁磁材料两者进行磁相互作用的磁性材料。
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