[发明专利]中微孔二氧化硅颗粒有效

专利信息
申请号: 200780040531.1 申请日: 2007-10-15
公开(公告)号: CN101528603A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 矢野聪宏;泽田拓也 申请(专利权)人: 花王株式会社
主分类号: C01B37/02 分类号: C01B37/02;C01B33/18
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人: 龙 淳;邸万杰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及(1)中空二氧化硅颗粒,其外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构,该中空二氧化硅颗粒的平均粒径为0.05~10μm,所有颗粒中的80%以上具有平均粒径±30%以内的粒径;(2)复合二氧化硅颗粒,其为外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构、BET比表面积为100m2/g以上的二氧化硅颗粒,该二氧化硅颗粒的内部包含疏水性有机化合物或高分子有机化合物;以及中空二氧化硅颗粒的制造方法。
搜索关键词: 微孔 二氧化硅 颗粒
【主权项】:
1.一种中空二氧化硅颗粒,其特征在于:外壳部具有平均微孔径1~10nm的中微孔结构,该中空二氧化硅颗粒的平均粒径为0.05~10μm,所有颗粒中的80%以上具有平均粒径±30%以内的粒径。
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