[发明专利]通过从等离子体沉积而形成膜的方法有效
| 申请号： | 200780040675.7 | 申请日： | 2007-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN101584020A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | P·罗卡艾卡巴罗卡斯;P·布尔金;D·戴纳卡;P·里波尔;P·狄斯坎普;T·科尔恩德米尔伦德尔 | 申请（专利权）人： | 陶氏康宁公司;巴黎综合理工大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李 帆 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 说明了从等离子体向衬底上沉积无定形或微晶材料例如硅的膜的方法。以不连续微波脉冲的序列将微波能量引入腔室中，以不连续气体脉冲的序列将膜前体气体引入腔室中，且至少在每个微波脉冲期间，将用于产生原子氢的气体供入腔室中。每个微波脉冲以非重叠形式跟随有前体气体脉冲，且每个前体气体脉冲之后是其间既没有微波脉冲又没有前体气体脉冲的时段。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 等离子体 沉积 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.从等离子体向衬底上沉积无定形或微晶材料的膜的方法，其中以不连续微波脉冲的序列将微波能量引入腔室中，以不连续气体脉冲的序列将膜前体气体引入腔室中，且至少在每个微波脉冲期间，将用于产生原子氢的气体供入腔室中，每个微波脉冲以非重叠形式跟随有前体气体脉冲，且每个前体气体脉冲之后是其间既没有微波脉冲又没有前体气体脉冲的时段。
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