[发明专利]用于上表面抗反射膜的组合物以及使用它的图案形成方法无效
| 申请号： | 200780041307.4 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101535897A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 能谷刚;小林政一;秋山靖;仓本胜利 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（日本）株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G02B1/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于形成顶部抗反射涂层的组合物，并还提供了一种使用该组合物的图案形成方法。该组合物防止曝光步骤中由于光线在抗蚀层中的反射导致的图案损失，并且它还避免了由蚀刻步骤产生的残留物导致的困扰。该组合物包含溶剂和平均粒径为1～100nm的微粒。本发明的图案形成方法中，用该组合物形成顶部抗反射涂层。根据本发明的组合物和方法可被用于形成由抗蚀层和顶部抗反射涂层组成的复合膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 反射 组合 以及 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于形成顶部抗反射涂层的组合物，其特征在于包含平均粒径为1～100nm的微粒和溶剂。
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