[发明专利]旋转导入机构、基板搬运装置和真空处理装置有效
申请号: | 200780042208.8 | 申请日: | 2007-11-13 |
公开(公告)号: | CN101542171A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 武者和博;南展史;川口崇文 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | F16J15/32 | 分类号: | F16J15/32;B25J9/06;B25J19/00;H01L21/677 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种将大气一侧的旋转运动传送到真空中、并且结构简单滑动阻力低的长寿命旋转导入机构、回转半径小并且产生的灰尘少的基板搬运装置、以及真空处理装置。在真空密封机构上安装润滑剂保持部件(5)。基板搬运装置的结构是,第1连接机构(20a)包括第1臂(21a)和第4臂(21b),第2连接机构(20b)包括第2臂(22a)和第3臂(22b),第1臂(21a)固定安装在第1驱动轴(25)上,第2臂(22a)固定安装在第2驱动轴(26)上,第3臂(22b)可旋转地安装在第1驱动轴(25)上,第4臂(21b)可旋转地安装在第2驱动轴(26)上。真空处理装置包括该基板搬运装置。 | ||
搜索关键词: | 旋转 导入 机构 搬运 装置 真空 处理 | ||
【主权项】:
1.一种旋转导入机构,将设置在大气一侧的驱动源的旋转运动传送到真空中,其特征在于,具有由凸出部、润滑剂、和润滑剂保持部件构成的真空密封机构,形成凸出部使得所述凸出部与旋转轴的接触面积变小。
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