[发明专利]中子的井下非同位素生成方法以及实施该方法所用的设备无效
申请号: | 200780043033.2 | 申请日: | 2007-11-19 |
公开(公告)号: | CN101542320A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 菲尔·蒂格 | 申请(专利权)人: | 威苏雷有限公司 |
主分类号: | G01V5/10 | 分类号: | G01V5/10;G01N23/00;H05H3/06 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 挪威兰*** | 国省代码: | 挪威;NO |
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摘要: | 本发明提供中子的井下非同位素生成方法以及实施该方法所用的设备。在用于在井下生成非放射性中子辐射(28)的方法中,中子辐射被设置成能够从钻井(3)的周围环境(5)产生反射,特别是伽马辐射,该方法包括以下步骤:通过泵型激光光源(13)激发多级激光增强器(12)中的激光(14)而形成脉冲激光(14a),入射光的能量集中在受限的激光脉冲上,从而表现出比激光(14)的连续通量更高的光能量;在真空室(15)的空间(23)内形成富中子流体(16)的液滴(16a);将被从基本完全相反的方向导向液滴(16a)的二次脉冲激光射线(14b,14c)聚焦在液滴(16a)内的一点处,液滴(16a)从而被压缩并加热,使得液滴(16a)中的富中子流体向周围环境(5)发出中子辐射(28),从而从周围环境(5)形成至少在伽马频率范围内的高能量的反射。一种用于实施该方法的设备(1)。 | ||
搜索关键词: | 中子 井下 同位素 生成 方法 以及 实施 所用 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于在井下生成非放射性中子辐射(28)的方法,所述中子辐射被设置成能够从钻井(3)的周围环境(5)产生反射,特别是伽马辐射,该方法的特征在于包括以下步骤:形成激光(14);将激光(14)导入多级激光增强器(12)中;通过泵型激光光源(13)激发激光(14),以形成脉冲激光(14a),入射光的能量集中在受限的激光脉冲上,受限激光脉冲表现出比激光(14)的连续通量更高的光能量;将一次脉冲激光射线(14a)引导通过分光器(17a),以形成两束具有基本相同的频率、能含量以及相位的二次脉冲激光射线(14b,14c);在真空室(15)的空间(23)内形成富中子流体(16)的液滴(16a);将被从基本完全相反的方向导向所述液滴(16a)的二次脉冲激光射线(14b,14c)聚焦在所述液滴(16a)内的一点处,所述液滴(16a)从而被压缩并加热,使得所述液滴(16a)中的富中子流体向周围环境(5)发出中子辐射(28),从而从所述周围环境(5)形成至少在伽马频率范围内的高能量的反射。
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