[发明专利]中子的井下非同位素生成方法以及实施该方法所用的设备无效

专利信息
申请号: 200780043033.2 申请日: 2007-11-19
公开(公告)号: CN101542320A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 菲尔·蒂格 申请(专利权)人: 威苏雷有限公司
主分类号: G01V5/10 分类号: G01V5/10;G01N23/00;H05H3/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 党晓林
地址: 挪威兰*** 国省代码: 挪威;NO
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摘要: 发明提供中子的井下非同位素生成方法以及实施该方法所用的设备。在用于在井下生成非放射性中子辐射(28)的方法中,中子辐射被设置成能够从钻井(3)的周围环境(5)产生反射,特别是伽马辐射,该方法包括以下步骤:通过泵型激光光源(13)激发多级激光增强器(12)中的激光(14)而形成脉冲激光(14a),入射光的能量集中在受限的激光脉冲上,从而表现出比激光(14)的连续通量更高的光能量;在真空室(15)的空间(23)内形成富中子流体(16)的液滴(16a);将被从基本完全相反的方向导向液滴(16a)的二次脉冲激光射线(14b,14c)聚焦在液滴(16a)内的一点处,液滴(16a)从而被压缩并加热,使得液滴(16a)中的富中子流体向周围环境(5)发出中子辐射(28),从而从周围环境(5)形成至少在伽马频率范围内的高能量的反射。一种用于实施该方法的设备(1)。
搜索关键词: 中子 井下 同位素 生成 方法 以及 实施 所用 设备
【主权项】:
1.一种用于在井下生成非放射性中子辐射(28)的方法,所述中子辐射被设置成能够从钻井(3)的周围环境(5)产生反射,特别是伽马辐射,该方法的特征在于包括以下步骤:形成激光(14);将激光(14)导入多级激光增强器(12)中;通过泵型激光光源(13)激发激光(14),以形成脉冲激光(14a),入射光的能量集中在受限的激光脉冲上,受限激光脉冲表现出比激光(14)的连续通量更高的光能量;将一次脉冲激光射线(14a)引导通过分光器(17a),以形成两束具有基本相同的频率、能含量以及相位的二次脉冲激光射线(14b,14c);在真空室(15)的空间(23)内形成富中子流体(16)的液滴(16a);将被从基本完全相反的方向导向所述液滴(16a)的二次脉冲激光射线(14b,14c)聚焦在所述液滴(16a)内的一点处,所述液滴(16a)从而被压缩并加热,使得所述液滴(16a)中的富中子流体向周围环境(5)发出中子辐射(28),从而从所述周围环境(5)形成至少在伽马频率范围内的高能量的反射。
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