[发明专利]投射阴影的自动陷印有效
| 申请号： | 200780043908.9 | 申请日： | 2007-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN101542539A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | S·R·亚汉恩;R·史蒂文森;D·R·贝克尔 | 申请（专利权）人： | 奥多比公司 |
| 主分类号： | G06T15/50 | 分类号： | G06T15/50;G09G5/00;G09G5/02;G06K9/40;G06K9/36 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 朱海波 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于自动陷印投射阴影的方法、程序产品和系统。对于毗邻包括投射阴影的原子区域的至少一个分段，以及对于分段的每一侧，确定该侧毗邻的原子区域的第一平面化颜色，以及如果该原子区域包括投射阴影，则另外确定忽略投射阴影颜色的第二平面化颜色。确定来自该侧第一平面化颜色的有效中性密度，如果该侧具有第二平面化颜色，则确定该侧的第二平面化颜色。基于针对各侧的有效中性密度来陷印毗邻于分段的两个原子区域。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 阴影 自动 | ||
【主权项】：
1.一种计算机实现的方法，包括：在图元序列中搜索表示投射阴影的投射阴影成例；以及如果找到所述投射阴影成例，则利用代理投射阴影元素来替换包括所述投射阴影成例的一个或者多个图元。
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