[发明专利]氙回收系统及回收设备有效
| 申请号： | 200780044543.1 | 申请日： | 2007-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN101547857A | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 木本雅裕;小浦辉政;福田幸生;楢崎胜贵;桥本泰司;酒井彻;横木和夫 | 申请（专利权）人： | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
| 主分类号： | C01B23/00 | 分类号： | C01B23/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明提供了具有高回收效率的简单高纯度Xe回收方法及设备，其通过从来自半导体制造工艺(例如等离子体蚀刻)的、包含低浓度Xe的废气中功能性地除去例如水、CO2及FCs的成分而实现。对于包含氙及氟碳化合物的样品。本发明的特征为至少具有第一吸附装置(A1)，其填充有串联排列的孔径大小为4或更小的合成沸石和氧化铝；气体分离装置(A2)，其由硅氧烷或聚乙烯中空纤维气体分离膜组件4构成；第二吸附装置(A3)，其填充有活性炭、孔径大小为5或更大的合成沸石、孔径大小为5或更大的碳分子筛、或这些的组合；和反应装置(A4)，其填充有钙化合物作为反应物。 | ||
| 搜索关键词： | 回收 系统 设备 | ||
【主权项】：
1. 从包含氙和至少氟碳化合物的样品中回收氙的系统，以及氙回收系统，其特征是至少包括所述样品下述加工过程的加工操作：(A1)使用吸附剂吸附并除去作为前述氟碳化合物的一种的三氟甲烷；(A2)使用气体分离膜除去作为前述氟碳化合物的一种的具有饱和键的氟碳化合物，并将氙浓缩；(A3)使用吸附剂吸附并回收前述氙，并使氙与所述吸附剂分离；(A4)使用反应物除去作为前述氟碳化合物的一种的具有不饱和键的氟碳化合物。
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