[发明专利]高功率脉冲磁控管溅射(HIPIMS)中的电弧抑制和脉动有效
| 申请号： | 200780045842.7 | 申请日： | 2007-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN101589450A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | S·卡德莱克;J·韦查特 | 申请（专利权）人： | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 汤春龙;徐予红 |
| 地址： | 列支敦士*** | 国省代码： | 列支敦士登;LI |
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| 摘要： | 提供了一种用于生成靶溅射以在衬底上产生涂层的设备。设备包括带阴极和阳极的磁控管。电源可操作连接到磁控管，并且至少一个电容器可操作连接到电源。设备也包括可操作连接到该至少一个电容器的电感。也提供了第一开关和第二开关。第一开关将电源可操作连接到磁控管以便为磁控管充电，并且第一开关配置为根据第一脉冲为磁控管充电。第二开关可操作连接以便将磁控管放电。第二开关配置为根据第二脉冲将磁控管放电。 | ||
| 搜索关键词： | 功率 脉冲 磁控管 溅射 hipims 中的 电弧 抑制 脉动 | ||
【主权项】：
1.一种用于生成靶溅射以在衬底上产生涂层的设备，包括：磁控管，包括阴极和阳极；电源，可操作连接到所述磁控管；至少一个电容器，可操作连接到所述电源；电感，可操作连接到所述至少一个电容器；第一开关，将所述电源可操作连接到所述磁控管以便为所述磁控管充电，并配置用于向所述磁控管实施第一脉冲；以及第二开关，可操作连接以便将所述磁控管放电并配置为根据第二脉冲将所述磁控管放电。
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