[发明专利]气液接触装置

摘要

一种用于改善气/液接触的装置，包括具有一连串过流盘反应台(14)和下液管(24)的处理塔(10)。过流盘反应台(14)提供用于质量转移的气/液接触，而下液管(24)是在液体进入下方的过流盘(12)前净化液体所要求的。过流盘(12)具有至少一个下液管(24)和一个相邻的工作液槽(38)。液槽(38)具有用来使通过液体流入其中的蒸汽产生气泡的至少一排孔(40)，并通过挡板(34)与下液管(24)分离。在液槽(38)底部净化的液体被送至下液管(24)。对于多个下液管的场合，可确保进入下一过流盘(12)的液体被均匀地分路。由此通过安装这些孔(40)来加强气/液接触，并通过添加工作液槽(38)改善液体无气泡净化。该反应塔工作的优势包括更高的过流盘过流容量和效率。

主权项

1.一种用于化学处理塔(10)的气/液接触的装置，所述装置包括处理塔和一系列过流盘(12)以及下液管(24)，其中：每个过流盘(12)穿设有孔(16)的反应台(14)，气体经由所述孔上升通过横流过所述反应台(14)的液体，形成气泡；至少一个板(28)从所述反应台(14)的边缘(31)朝向位于正下方的过流盘(12)下降以形成位于所述反应台(14)的边缘(31)和反应塔壁部之间的下液管体积，所述板(28)具有若干基本垂直的管形通道(30)，籍此气体能流过所述板(28)，每个所述通道的顶部位于与所述反应台(14)的表面大致相同的高度上；挡板(34)位于所述反应台(14)的边缘(31)和反应塔(10)的壁部之间，以将所述下液管体积分成两个基本垂直的部分，第一部分是紧挨着反应塔(10)的壁部的下液管(24)而第二部分是位于所述第一部分和所述反应台(14)的边缘(31)之间的工作液槽(38)，设有朝向所述挡板(34)的底边(44)的孔(40)，液体可通过该孔从工作液槽(38)下降至下液管体积的下部，以使上升通过所述板(28)中的通道(30)的气体通过流入所述工作液槽(38)的液体而产生气泡。