[发明专利]用于生产光学活性含氟羰基-烯产物的方法有效

专利信息
申请号: 200780047082.3 申请日: 2007-12-18
公开(公告)号: CN101583589A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 三上幸一;相川光介;石井章央;茂木香织;大塚隆史 申请(专利权)人: 中央硝子株式会社;国立大学法人东京工业大学
主分类号: C07C67/347 分类号: C07C67/347;C07B61/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;刘冬梅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 通过在存在具有光学活性配体的过渡金属配合物下,使含氟α-酮酸酯与烯烃反应来生产光学活性含氟羰基-烯产物。具体公开了其中在没有反应溶剂存在的情况下进行反应的模式1,其中在具有低相对介电常数的溶剂中进行反应的模式2,以及其中在卤化烃系溶剂中进行反应的模式3。通过上述三种模式的任一种可以以低成本来生产光学活性含氟羰基-烯产物。
搜索关键词: 用于 生产 光学 活性 羰基 产物 方法
【主权项】:
1.一种用于生产由式[3]表示的光学活性含氟羰基-烯产物的方法,所述方法通过在存在具有光学活性配体的过渡金属配合物和不存在反应溶剂的情况下,使由式[1]表示的含氟α-酮酸酯与由式[2]表示的烯烃反应来生产所述光学活性含氟羰基-烯产物:[化学式69][在式中,Rf表示全氟烷基,以及R表示烷基][化学式70][在式中,R1、R2、R3、R4和R5各自独立地表示氢原子、烷基、取代烷基、芳环基或取代芳环基][化学式71][在式中,Rf、R、R1、R2、R3、R4和R5表示与上述相同的取代基,*表示不对称碳(然而在R4和R5为相同取代基的情况下,其不为不对称碳),以及波浪线表示双键几何构型中的E构型或Z构型]。
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