[发明专利]膜质评价方法及其装置、以及薄膜设备的制造系统无效
| 申请号： | 200780047527.8 | 申请日： | 2007-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101568821A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 坂井智嗣;津村阳一郎;饭田政巳;川添浩平 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27;H01L21/66 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 高培培;车 文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种膜质评价方法及其装置、以及薄膜设备的制造系统，以在使作业员的负担减轻的同时使制造效率提升为目的。对薄膜硅系设备所使用的结晶质硅膜照射光，检测由结晶质硅膜反射的反射光，对检测出的反射光的辉度的参数进行计测，并根据该辉度的参数是否在预先设定的适当范围内来进行该结晶质硅膜的膜质评价。 | ||
| 搜索关键词： | 评价 方法 及其 装置 以及 薄膜 设备 制造 系统 | ||
【主权项】：
1.一种膜质评价方法，包括：对在基板上形成的结晶质硅膜从膜面侧照射光，对由所述结晶质硅膜反射的反射光进行检测，对检测出的反射光的辉度的参数进行计测，根据该辉度的参数是否在预先设定的适当范围内，进行该结晶质硅膜的膜质评价。
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