[发明专利]波长选择方法、膜厚计测方法、膜厚计测装置及薄膜硅系设备的制造系统无效
| 申请号： | 200780047754.0 | 申请日： | 2007-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101568797A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 坂井智嗣;饭田政巳;川添浩平 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 高培培;车 文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明以降低膜厚的计测误差为目的。对将膜质状态及膜厚不同的薄膜形成于基板上的多个样本照射不同波长的照明光，分别计测与照射各波长的照明光时的透射光的光量相关的评价值，基于该计测结果，对每个波长作成表示各膜质状态中膜厚和评价值的相关关系的膜厚特性，在各膜厚特性中选择由膜质状态引起的评价值的计测差在规定范围内的波长。 | ||
| 搜索关键词： | 波长 选择 方法 膜厚计测 装置 薄膜 设备 制造 系统 | ||
【主权项】：
1.一种波长选择方法，选择薄膜膜厚计测所使用的波长，其中，对将膜质状态及膜厚不同的薄膜形成于基板上的多个样本照射不同波长的照明光，分别计测与照射各所述波长的照明光时的透射光的光量相关的评价值，基于该计测结果，对所述每个波长，作成表示各所述膜质状态中膜厚和所述评价值的相关关系的膜厚特性，在各所述膜厚特性中选择由膜质状态引起的所述评价值的计测差在规定范围内的波长。
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