[发明专利]投影光学装置、曝光方法和设备制造方法有效
| 申请号： | 200780049261.0 | 申请日： | 2007-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101611352A | 公开（公告）日： | 2009-12-23 |
| 发明（设计）人： | 熊泽雅人;登道男 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 段 斌;黄 霖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在利用多个投影光学系统在对象上形成掩模图案的放大图像时，使掩模图案的尺寸最小化。投影曝光装置使掩模(MA)和基底(PT)相对地移动并形成掩模(MA)的图案的放大图像。该装置包括投影光学系统(PL1，PL2)，其分别具有扩大的放大倍率且在所述基底(PT)上形成掩模(MA)的图案的图像。通过连接掩模(MA)上的投影光学系统(PL1，PL2)的视野点(a，b)而形成的第一线段和通过连接基底(PT)上的视野点的共轭点(A，B)而形成的第二线段形成了两个相似图形的相应的边，所述两个相似图形的放大比率是所述放大倍率。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学 装置 曝光 方法 设备 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于在第二对象上形成第一对象的放大图像的投影光学装置，其中，所述第一对象和所述第二对象沿预定的扫描方向相对地移动，所述投影光学装置的特征在于具有：第一投影光学系统和第二投影光学系统，所述第一投影光学系统和所述第二投影光学系统具有扩大的放大倍率，所述第一投影光学系统和所述第二投影光学系统中的每个在所述第二对象上形成所述第一对象的一部分的图像；其中，所述第一投影光学系统和所述第二投影光学系统中的至少一个包括光束传输构件，所述光束传输构件用于通过使来自所述第一对象上的任意视野点的光束沿至少与所述扫描方向正交的方向移位而将来自视野点的光束传输至所述第二对象上的共轭点。
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