[发明专利]键合两个衬底的方法有效

专利信息
申请号: 200780051154.1 申请日: 2007-11-23
公开(公告)号: CN101601123A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 塞巴斯蒂安·凯尔迪勒;维利·米歇尔;沃尔特·施瓦岑贝格;达尼埃尔·德尔普拉;纳迪娅·本默罕默德 申请(专利权)人: 硅绝缘体技术有限公司
主分类号: H01L21/20 分类号: H01L21/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李 辉
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种将两个衬底键合在一起的方法,在键合期间所述衬底的表面彼此接触,该方法包括至少一个清洁步骤,该清洁步骤在使得要键合的两个衬底或者其中一个衬底的表面彼此接触之前清洁所述表面,其特征在于,以使得所清洁的各个表面未被显著地粗糙化的方式执行所述清洁步骤,并且其中,在所述键合之前还对所述要键合的至少一个衬底进行加热,所述加热是在这些衬底的表面彼此接触之前开始的,并且所述加热至少持续到这些表面已经彼此接触为止。本发明还涉及一种形成包括半导体材料薄层的结构的方法,该半导体材料薄层是从供体衬底被转移到第二衬底的,该方法包括以下步骤:将两种原子物质共同注入到所述供体衬底中,以生成限定了要转移的薄层的削弱区域;将这些衬底键合在一起,该方法的特征在于,以使得所述两种原子物质的峰值在所述供体衬底的厚度中具有小于200的偏移的方式,注入所述两种原子物质;并且其中,根据前述方法执行所述键合。
搜索关键词: 两个 衬底 方法
【主权项】:
1、一种将两个衬底键合在一起的方法,在所述键合期间这两个衬底的表面彼此接触,该方法包括至少一个清洁步骤,该清洁步骤在使得要键合的两个衬底的表面彼此接触之前清洁所述两个衬底或者其中一个衬底的所述表面,所述方法的特征在于,-以使得所清洁的各个表面未被显著地粗糙化的方式执行所述清洁步骤,并且其中,-在所述键合之前还对要键合的至少一个衬底进行加热,所述加热是在这些衬底的表面彼此接触之前开始的,并且所述加热至少持续到这些表面已经彼此接触为止。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅绝缘体技术有限公司,未经硅绝缘体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780051154.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top