[发明专利]阻隔膜形成装置、阻隔膜形成方法及阻隔膜被覆容器

摘要

一种阻隔膜形成装置，其将具有凹凸部(12a)的容器(12)作为被处理物，在内表面形成阻隔膜，具备：具有包围所述容器(12)的大小的电介质部件(50)；覆盖该电介质部件(50)的外周侧的外部电极(13)；经由绝缘部件(26)安装于所述容器(12)的口部(11)所处的一侧的所述外部电极(13)的端面，经由排气管(14)对所述容器(12)的内部进行减压的排气机构；从所述排气管(14)侧插入，兼作用于向所述容器(12)内喷出阻隔膜生成用介质气体(19)的气体喷出部的内部电极(17)；用于赋予用于在所述外部电极(13)和绝缘部件之间产生放电的电场的电场施加机构。

主权项

1.一种阻隔膜形成装置，其在容器内表面形成阻隔膜，其特征在于，使用在外部电极和容器之间设置的电介质部件、和外部电极与容器的空隙或所述电介质部件与容器内表面的空隙，使施加于所述容器内表面的电压大致均匀。