[发明专利]超斥水表面的制备有效
| 申请号： | 200780052518.8 | 申请日： | 2007-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101663249A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 林玹仪;郑大焕;卢贞贤;金晥斗 | 申请（专利权）人： | 韩国机械研究院 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种超斥水表面的制备方法，所述方法包括下列步骤：将多个球形珠体安置于基体表面上以形成第(N)珠体层，以所述第(N)珠体层作为蚀刻掩模蚀刻所述基体表面，将多个直径大于所述第(N)珠体的球形珠体安置于所述基体表面上以形成第(N+1)珠体层，以所述第(N+1)珠体层作为蚀刻掩模蚀刻所述基体表面，从经蚀刻的所述基体表面除去所述珠体并在已形成有分层凹凸结构的所述基体表面上涂布氟化合物，其中将第(N+1)珠体层形成步骤和第(N+1)蚀刻步骤重复N次。 | ||
| 搜索关键词： | 水表 制备 | ||
【主权项】：
1.一种超斥水表面的制备方法，所述方法包括下列步骤：将多个球形珠体安置于基体表面上以形成第(N)珠体层；以所述第(N)珠体层作为蚀刻掩模蚀刻所述基体表面；将多个直径大于所述第(N)珠体的球形珠体安置于所述基体表面上以形成第(N+1)珠体层；以所述第(N+1)珠体层作为蚀刻掩模蚀刻所述基体表面；从经蚀刻的所述基体表面除去所述珠体；和在已形成有分层凹凸结构的所述基体表面上涂布氟化合物，其中，将第(N+1)珠体层形成步骤和第(N+1)蚀刻步骤重复N次。
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