[发明专利]电子照相感光构件的制备方法有效

专利信息
申请号: 200780053682.0 申请日: 2007-09-14
公开(公告)号: CN101689031A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 大地敦;大垣晴信;野口和范;植松弘规;川原正隆 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/00 分类号: G03G5/00;G03G5/147;G03G5/05
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 以高生产性稳定地生产在其表面具有凹陷部的电子照相感光构件的方法。该方法的特征在于提供表面层用涂布液,施涂所述表面层用涂布液,通过凝结在已施涂表面层用涂布液的表面上形成凹陷部,所述表面层用涂布液包括含亲水性溶剂和疏水性溶剂的溶剂以及可溶于所述疏水性溶剂的聚合物化合物,其中亲水性溶剂的沸点不低于疏水性溶剂的沸点,其中通过使用半经验分子轨道计算的结构优化计算得到的亲水性溶剂的偶极矩在0至小于2.8的范围内,其中疏水性溶剂的总质量为包括在表面层用涂布液中的溶剂的总质量的50质量%至小于100质量%范围内。
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 制备 方法
【主权项】:
1.一种制备电子照相感光构件的方法,所述电子照相感光构件在其表面具有凹陷部,其中使用表面层用涂布液,所述表面层用涂布液包括含亲水性溶剂和疏水性溶剂的溶剂以及可溶于所述疏水性溶剂的聚合物化合物;所述亲水性溶剂的沸点等于或高于所述疏水性溶剂的沸点;所述亲水性溶剂的偶极矩为0以上至小于2.8,其通过使用半经验分子轨道计算的结构优化计算得到;所述疏水性溶剂的总质量为包括在所述表面层用涂布液中的溶剂的总质量的50质量%以上至小于100质量%;在施涂所述表面层用涂布液之后,通过凝结在已施涂所述表面层用涂布液的表面上形成所述凹陷部。
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