[发明专利]通过溅射的成膜方法及其溅射设备有效
| 申请号： | 200780100063.2 | 申请日： | 2007-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101765677A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 远藤彻哉;爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种溅射设备，该溅射设备通过配置靶材和基板以允许从靶材发出的溅射粒子选择性地倾斜入射到基板而能够倾斜成膜，并且能够均一地和紧凑地形成具有高的单轴磁各向异性的磁性膜。溅射设备包括：阴极，其具有溅射靶材支撑面，该阴极设置有转轴，溅射靶材支撑面可绕该转轴转动；以及台架，其具有基板支撑面，该台架设置有转轴，基板支撑面可绕该转轴转动，溅射设备被构造成使得溅射靶材支撑面和基板支撑面彼此面对并且可绕各自的转轴独立地转动。此外，溅射设备被构造成使得在溅射靶材支撑面和基板支撑面之间配置遮蔽板并且遮蔽板可独立于阴极和台架地转动。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 溅射 方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
一种溅射设备，所述溅射设备包括：阴极，所述阴极包括溅射靶材支撑面，所述阴极设置有转轴，所述溅射靶材支撑面能绕所述阴极的所述转轴转动；台架，所述台架包括基板支撑面，所述台架设置有转轴，所述基板支撑面能绕所述台架的所述转轴转动，其中，所述溅射设备被构造成使得所述溅射靶材支撑面和所述基板支撑面彼此面对并且能绕各自所绕的转轴独立地转动。
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