[发明专利]微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统有效
| 申请号： | 200780100451.0 | 申请日： | 2007-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN101796460A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·德冈瑟;迈克尔·莱 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 扫描微光刻投射曝光设备(10)中用于照明掩模(16)的照明系统具有物镜(52；152；252；352；452)，该物镜具有物平面(50；150；250；350；450)、至少一个光瞳面(60；160；360；460)和其中能布置掩模(16)的像平面(54；154；354；454)。提供反射或透射的光束偏转元件(Mij；Tij)的光束偏转阵列(40；140；340；440)，其中每一光束偏转元件(Mij；Tij)适于将打入光束偏转一偏转角，该偏转角响应于控制信号可变。依照本发明，该光束偏转元件(Mij；Tij)布置在物镜(52；152；252；352；452)的物平面(50；150；250；350；450)中或紧邻所述物平面。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 用于 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种在扫描微光刻投射曝光设备(10)中用于照明掩模(16)的照明系统，包括：a)物镜(52；152；252；352；452)，该物镜具有物平面(50；150；250；350；450)、至少一个光瞳面(60；160；360；460)和其中能布置掩模(16)的像平面(54；154；354；454)，b)反射或透射的光束偏转元件(Mij；Tij)的光束偏转阵列(40；240；340；440)，其中每一光束偏转元件(Mij；Tij)适于将打入光束偏转一偏转角，该偏转角响应于控制信号可变，其特征在于，该光束偏转元件(Mij；Tij)布置在物镜(52；152；252；352；452)的物平面(50；150；250；350；450)中或紧邻所述物平面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份公司，未经卡尔蔡司SMT股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780100451.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
