[发明专利]无弧斑的真空电弧离子镀膜技术有效

专利信息
申请号: 200810000002.5 申请日: 2008-01-02
公开(公告)号: CN101476107A 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 王殿儒;金佑民 申请(专利权)人: 北京长城钛金公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100095北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种无弧斑的真空电弧离子镀膜技术,将无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源,安装在真空度为10-10-3Pa的真空镀膜室内,室的内壁作为无弧斑真空电弧的阳极,也可在真空室内专设一辅助阳极,可将此辅助阳极与室内壁相连接,共同作为阳极,也可不连接,内壁不作阳极,蒸发离化源的圆形断面的圆柱形阴极是镀料供给源,供出无液滴、高电离度、高密度的金属蒸气等离子体,并射向阴极对面的工件,工件上施加负偏压,则实现了符合离子镀定义的规范的离子镀膜过程。
搜索关键词: 无弧斑 真空 电弧 离子镀 膜技术
【主权项】:
1. 一种无弧斑的真空电弧离子镀膜技术,其特征是以无弧斑的真空电弧等离子体蒸发离化源,作为被镀工件的镀料供给源,将它安置在真空度为10-10-3Pa的真空镀膜室内,室的内壁作为无弧斑真空电弧的阳极,也可在真空室内专设一辅助阳极,可将此辅助阳极与室内壁相连接,共同作为阳极,也可不连接,内壁不作阳极,上述镀料供给源作为无弧斑真空电弧的阴极,该阴极通常是具有圆形断面的圆柱形阴极,也可以用任意形断面的阴极,也可以用盛于坩埚内的液态阴极,此无弧斑的真空电弧阴极所产生的无液滴、高电离度、高密度的金属蒸气等离子体射向阴极对面的工件,而在工件上施加负偏置电压,则实现了符合离子镀定义的规范的离子镀镀膜过程。
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