[发明专利]制造光学元件的方法和光学元件无效
| 申请号： | 200810000186.5 | 申请日： | 2008-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN101249665A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 若泽·齐默尔;乌尔里希·波伊切尔特;约亨·阿尔克姆佩尔;伊冯娜·门克;伊娜·米特拉 | 申请（专利权）人： | 史考特公司 |
| 主分类号： | B28B3/00 | 分类号： | B28B3/00;B28B1/26;B28B1/54;B28B11/24;C04B35/63;C04B35/64 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘国伟 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种使用模制步骤来制造由光学陶瓷组成的光学元件、尤其是透镜的方法，所述模制步骤包含制造生坯，且所述模制步骤包含应用至少一个近净形模具，其中将介于约0.1MPa与50MPa之间、优选介于0.5MPa与25MPa之间、尤其优选介于约1MPa与12MPa之间的中等压力在将陶瓷粉末填充到所述模具中期间而施加至所述粉末批料上或施加至已位于所述模具中的所述陶瓷粉末批料上。本发明还涉及通过进行所述方法获得的光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 光学 元件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使用模制步骤来制造由光学陶瓷组成的光学元件、尤其是透镜的方法，所述模制步骤包含制造生坯，且所述模制步骤包含应用至少一个近净形模具，其中将介于约0.1MPa与50MPa之间、优选介于0.5MPa与25MPa之间、尤其优选介于约1MPa与12MPa之间的中等压力在将陶瓷粉末填充到所述模具中期间而施加至所述粉末批料上或施加至已位于所述模具中的所述陶瓷粉末批料上。
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