[发明专利]滤色片阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810000202.0 申请日: 2004-11-24
公开(公告)号: CN101221260A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 殷钟赞;具东孝;刘晙荣 申请(专利权)人: LG.菲利浦LCD株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G03F7/00;G02F1/1335
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国;梁挥
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种滤色片阵列基板的制造方法,它包括:在基板上形成黑矩阵;在印刷辊上沉积彩色光阻剂;制备具有突起的支撑板,所述突起被设置成能与黑矩阵和其它滤色片层相对应;让印刷辊在支撑板上旋转,以便通过让第一部分的彩色光阻剂粘到突起上从印刷辊上去除第一部分的彩色光阻剂,让第二部分的彩色光阻剂留在印刷辊上;让印刷辊在基板上滚动,以便将第二部分的彩色光阻剂印刷到黑矩阵之间;让第二部分的彩色光阻剂硬化,形成滤色片层;以及重复所述沉积步骤至硬化步骤以形成所述其它滤色片层。
搜索关键词: 滤色片 阵列 制造 方法
【主权项】:
1.一种滤色片阵列基板的制造方法,它包括:在基板上形成黑矩阵;在印刷辊上沉积彩色光阻剂;制备具有突起的支撑板,所述突起被设置成能与黑矩阵和其它滤色片层相对应;让印刷辊在支撑板上旋转,以便通过让第一部分的彩色光阻剂粘到突起上从印刷辊上去除第一部分的彩色光阻剂,让第二部分的彩色光阻剂留在印刷辊上;让印刷辊在基板上滚动,以便将第二部分的彩色光阻剂印刷到黑矩阵之间;让第二部分的彩色光阻剂硬化,形成滤色片层;以及重复所述沉积步骤至硬化步骤以形成所述其它滤色片层。
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