[发明专利]磁盘装置有效

专利信息
申请号: 200810001346.8 申请日: 2008-01-09
公开(公告)号: CN101241704A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 望月正文;清水幸也;西田周治 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31;G11B5/73
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 李涛;钟强
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 在模式垂直磁记录介质中,提供一种磁头及装备有该磁头的记录装置,在所述磁头中可以抑制施加到相邻磁道的磁场。在本发明的实施例中,在具有软磁底层的磁记录介质中,磁头14的主磁极1的宽度Pw和磁道的宽度方向侧上的左右磁性物质33和主磁极1之间的距离(所谓的侧间隙长度s_gl_1和s_gl_2的宽度)的总和被制成不超过软磁底层的凸面或平台的宽度w_land和邻近于其两侧上的平台的凹面或凹槽的宽度w_groove_1和w_groove_2的总和。
搜索关键词: 磁盘 装置
【主权项】:
1.一种磁盘装置包括:用于垂直磁记录的磁盘,具有磁记录层和在所述磁记录层下面的底层,以及还包括凹槽和平台,用于限定所述磁记录层和所述底层的至少一个上的磁道宽度;以及用于垂直磁记录的磁头,具有主磁极、辅助磁极以及侧屏蔽,该侧屏蔽位于所述主磁极的跨磁道方向的两侧上并由磁性物质制成;其由用于限定所述磁道宽度的所述主磁极的宽度、和在所述主磁极与所述主磁极两侧上的所述侧屏蔽之间的两个侧间隙的宽度总和,不超过所述平台的宽度和所述平台两侧上的凹槽宽度的总和。
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