[发明专利]用于半导体制造的系统、方法及半导体制造的装置有效
申请号: | 200810001882.8 | 申请日: | 2008-01-17 |
公开(公告)号: | CN101325149A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 古杰焕;陈永和;林志昌;彭春明 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/67;H01L21/677;G03F7/20 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种用于半导体制造的系统,至少包含一制程工具,一缓冲器,一输入负载埠,一输出负载埠,与一轨径模组。制程工具用以处理晶圆;缓冲器与制程工具相连接,用以容纳等待制程工具所处理的晶圆;输入负载埠与缓冲器相连接,用以将待处理的晶圆由载入容器送入晶圆;输出负载埠与该制程工具相连接,用以将制程工具处理完成的晶圆送到一载出容器;轨径模组用以运送晶圆在缓冲器、制程工具与输入与输出负载埠之间。本发明亦揭露一种用于半导体制造的方法及一种半导体制造的装置。所述系统、方法和装置可以在半导体制造的过程中减少制程工具闲置或等待的时间。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体 制造 系统 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种用于半导体制造的系统,其特征在于,其包含:一制程工具,用以处理晶圆;一缓冲器,连接于该制程工具,用以容纳等待该制程工具处理的晶圆;一输入负载埠,连接于该缓冲器,用以从一载入容器中把待处理的晶圆送入该缓冲器;一输出负载埠,连接于该制程工具,用以把该制程工具处理完成的晶圆送到一载出容器;以及一轨径模组,用以在该缓冲器、该制程工具与该输入与输出负载埠之间运送晶圆。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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