[发明专利]记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 200810003415.9 | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101221772A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 今村孝浩 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/725 | 分类号： | G11B5/725;G11B5/66;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及记录介质及其制造方法。根据一个实施方式的一个方面，记录介质包括：具有表面不平坦性的用于记录信息的记录层；布置在该记录层上的固定滑润剂层，该固定滑润剂层被布置为覆盖所述表面并具有平坦表面；以及叠置在该固定滑润剂层上的流体滑润剂层，该流体滑润剂层具有流动性。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种记录介质，其包括：具有不平坦表面的用于记录信息的记录层；布置在该记录层上的固定滑润剂层，该固定滑润剂层被布置为覆盖所述表面并具有平坦表面；以及叠置在该固定滑润剂层上的流体滑润剂层，该流体滑润剂层具有流动性。
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