[发明专利]成像光学系统在审
| 申请号： | 200810003654.4 | 申请日： | 2008-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101226272A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | H－J·曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于微光刻的投影曝光装置具有带多个反射镜(M1至M6)的成像光学系统。所述反射镜将物平面(4)内的物方视场成像在像平面(8)内的像方视场上。所述反射镜中的一个(M6)具有用于使光从其通过的通孔(23)。至少一个反射镜(M1至M6)的反射面是不能用旋转对称函数描述的自由形态表面的形式。另外，投影曝光装置具有用于照明和成像光(3)的光源和用于将照明光(3)引导到成像光学系统(6)的物方视场的透镜系统。通过提供刻线和晶片，通过将刻线上的结构投影到晶片的光敏层上且通过在晶片上制造微结构，用投影曝光装置制造微结构化元件。一种相应的成像光学系统可以用作显微透镜，其中，物平面和像平面相互交换。这样制造具有改善的成像特性的成像光学系统，和/或其中可以更简单地制造预定的尺寸的反射镜。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 | ||
【主权项】：
1.一种包括多个反射镜(M1至M6；59至62)的成像光学系统(6；35；42；49；56；63；64；65；66)，所述反射镜将位于物平面(4；58)上的物方视场成像在位于像平面(8，57)的像方视场(7)上，所述反射镜中的至少一个(M6；62)具有用于使成像光(3)通过的通孔(23)，该成像光学系统的特征在于：至少一个反射镜(M1至M6；59至62)的反射面是不能用旋转对称函数描述的自由形态表面(27)。
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