[发明专利]晶片卡盘和形成晶片卡盘的方法无效
| 申请号： | 200810003849.9 | 申请日： | 2008-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101303531A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 马太·利普森;罗伯特·D·哈内德;杰弗里·奥康纳;蒂莫西·奥尼尔 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 描述了一种用于光刻设备的晶片卡盘，所述晶片卡盘包括：低热膨胀玻璃陶瓷衬底；硅化碳化硅层；和粘结层，所述粘结层包括强度为至少大约5兆帕的硅酸盐，所述粘结层将硅化碳化硅层与衬底结合。还描述了一种形成用于光刻设备的晶片卡盘的方法，所述方法包括：将粘结溶液涂覆在低热膨胀玻璃陶瓷衬底和硅化碳化硅层这两者或其中之一的一部分上；并使所述衬底和硅化碳化硅层接触，以将所述衬底和所述硅化碳化硅层结合在一起。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 卡盘 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻设备的晶片卡盘，包括：低热膨胀玻璃陶瓷衬底；硅化碳化硅层；和粘结层，所述粘结层包括强度为至少大约5兆帕的硅酸盐，所述粘结层将硅化碳化硅层与衬底结合。
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