[发明专利]非易失性半导体存储器件有效

专利信息
申请号: 200810004810.9 申请日: 2008-02-02
公开(公告)号: CN101252019A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 山本安卫;白滨政则;县泰宏;川崎利昭 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/06;G11C16/08;H01L27/115;G11C16/26
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种可按标准CMOS工艺制造的非易失性半导体存储器件,提供一种节省存储单元面积的技术。在通过在浮置栅上蓄积电荷而存储数据的非易失性半导体存储器件中,按阵列状排列包含作为读出器件的第一MOS晶体管(38、39)、由作为电容耦合器件的第一电容器(47、48)和作为擦除器件的第二电容器(49、50)构成的位单元(62、63)、以及具有第二MOS晶体管(28、29)和第三MOS晶体管(34、35)的译码器件(61)的存储单元(60)。能使可进行每个位的选择擦除的非易失性存储器阵列化,从而可以大幅度地缩小磁心面积。
搜索关键词: 非易失性 半导体 存储 器件
【主权项】:
1.一种非易失性半导体存储器件,其特征在于:呈阵列状排列有多个由读出器件、擦除器件和译码器件构成的存储单元,其中,由各个MOS晶体管构成的上述读出器件和上述擦除器件相互连接,上述读出器件和上述擦除器件的栅极被共用,由行选择信号和列选择信号控制的上述译码器件的输出端与上述擦除器件相连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810004810.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top