[发明专利]双层层叠物及使用它的构图方法无效
| 申请号： | 200810005175.6 | 申请日： | 2002-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101231465A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 太田克;伊藤淳史;望月勇;猪俣克巳;岩永伸一郎 | 申请（专利权）人： | 捷时雅株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/023 | 分类号： | G03F7/023;G03F7/095;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 项丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及用于形成图案层的顶离方法，所述层通过沉积和/或溅射形成。本发明提供了双层抗蚀剂以及使用该抗蚀剂的形成图案的方法。这种形成图案的方法容易在基材上形成无毛刺的层。该方法包括下列步骤：顺序施涂辐射敏感的树脂组合物1和2，形成双层层叠物；使所述双层层叠物进行一次曝光和显影，形成具有底切横截面的细的图案；使用抗蚀剂图案作为掩膜，沉积和/或溅射有机或无机薄层；和顶离所述抗蚀剂图案，留下需要形状的薄层的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 双层 层叠 使用 构图 方法 | ||
【主权项】：
1.一种双层层叠物，其包括：由正辐射敏感的树脂组合物1形成的抗蚀层(I)，所述组合物包括含羟基或羧基的自由基聚合物(A)、含醌二叠氮基团的化合物(B)和溶剂(C)，其中，所述自由基聚合物(A)的重均分子量为2,000-100,000；所述含醌二叠氮基团的化合物(B)的用量为5-60重量份，以所述自由基聚合物(A)为100重量份计；和由正辐射敏感的树脂组合物2形成的抗蚀层(II)，所述组合物包括含酚羟基的聚合物(D)、含醌二叠氮基团的化合物(E)和溶剂(F)，其中，所述含醌二叠氮基团的化合物(E)的用量为5-60重量份，以所述聚合物(D)为100重量份计；所述溶剂(F)为2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮或环己酮。
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