[发明专利]具有用于降低浆液消耗的凹槽的抛光垫

摘要

本发明涉及一种与支架环联合使用的抛光垫、一种设计用来与支架环协作的抛光垫、以及一种制造和支架环一起使用的旋转抛光垫的方法。本发明提供了一种化学机械抛光垫，该抛光垫具有环形抛光轨道和同心中心O。所述抛光垫包括抛光层，该抛光层具有形成于其中的多个抛光垫凹槽。该抛光垫被设计用来与支架(例如晶片支架)一起使用，所述支架包括具有多个支架凹槽的抛光环。所述多个抛光垫凹槽中的每一个都具有与支架相容的凹槽形状，该凹槽形状被构造成提高抛光过程中位于支架环前缘上的支架环下面的抛光介质的传送。

主权项

1.一种与支架环联合使用的抛光垫，所述支架环具有至少一个支架凹槽和在存在抛光介质的情况下使用抛光垫和支架环对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光时相对于所述抛光垫的前缘，所述至少一个支架凹槽相对于所述支架环具有取向，所述抛光垫具有从抛光垫的中心延伸出来的半径，所述半径具有一定长度，所述抛光垫包括：a)构造成用来在存在抛光介质的情况下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层，所述抛光层包括圆形抛光面，该抛光面在抛光过程中具有环形抛光轨道；以及b)至少一个抛光垫凹槽，所述凹槽在抛光轨道内具有与支架相容的凹槽形状，至少一部分的与支架相容的凹槽形状是放射状的或弧形放射状的，所述与支架相容的凹槽形状在沿着半径长度的至少一个位置与抛光垫的半径相切，与支架相容的凹槽形状测定为至少一个支架凹槽的取向的函数，从而使得当所述至少一个支架凹槽在抛光过程中处于支架环的前缘时，至少一个支架凹槽与所述至少一个抛光垫凹槽在沿着所述与支架相容的凹槽形状的多个位置上对准。