[发明专利]用于同时利用粒子和光子来观察试样的粒子-光学装置无效

专利信息
申请号: 200810005485.8 申请日: 2008-02-05
公开(公告)号: CN101241026A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: W·R·诺尔斯 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;H01J37/22
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 范晓斌;赵辛
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种粒子-光学装置,例如ESEM,用于同时通过粒子和光子来观察试样。压力限制装置(PLA)布置在ESEM的物镜和试样位置之间的隔膜中。试样位置与孔之间的距离足够小,以便使较大收集角的光子通过该孔。镜布置在隔膜和物镜之间。由于光子的较大收集角,可以获得极大NA。在试样位置和孔之间的较小距离还导致电子的散射比在ESEM(其中,镜布置在孔和试样位置之间)中产生的更少,因为电子只需要在高压区域中通过有限长度。实施例介绍了使用例如浸没透镜时的组合。
搜索关键词: 用于 同时 利用 粒子 光子 观察 试样 光学 装置
【主权项】:
1.一种粒子-光学装置,包括:真空腔室(100);安装在该真空腔室上的粒子-光学柱(102),用于产生围绕粒子-光学轴线(106)的粒子束,所述粒子-光学柱包括粒子源(104);位于该真空腔室(100)中的试样载体(110),用于将试样承载在试样位置(112),所述试样位置位于该粒子-光学轴线(106)上;镜(114),用于收集从该试样位置(112)发出的光,或者将光聚焦在该试样位置(112)上,所述镜具有围绕该粒子-光学轴线(106)的通孔(116);以及抽空装置,用于对该装置进行抽空;其特征在于:隔膜(118)布置在该试样位置(112)与该镜(114)之间,所述隔膜将第一容积(122)与第二容积(124)分开,该试样位置(112)位于该第一容积(122)中,所述隔膜(118)具有围绕该粒子-光学轴线(106)的孔(120),用于由粒子-光学柱(102)产生的粒子通过并用于该镜(114)与试样位置(112)之间的光通过;该孔(120)将从第一容积(122)流向第二容积(124)的气流限制为这样的值,即,当在试样位置(112)处的压力是流体平衡压力,且平衡压力大于1mbar时,该抽空装置可以将该第二容积(124)抽空至足够低的压力,以便当与第一容积中的散射比较时可以忽略粒子束在第二容积中的散射;该孔(120)与该试样位置(112)之间的距离可以调节成或固定成小于该孔(120)的直径的四倍,优选是小于该孔(120)的直径的两倍;且该镜(114)位于该隔膜(118)与粒子源(104)之间。
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