[发明专利]块效应去除系统和方法有效
| 申请号： | 200810005544.1 | 申请日： | 2008-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101378507A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 南建宇 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H04N7/26 | 分类号： | H04N7/26;H04N7/30;H04N7/50 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;李云霞 |
| 地址： | 韩国京畿道*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供一种块效应去除系统和方法。一种块效应去除系统，包括：像素片段提取单元，对于与图像的块边界相邻的每一像素组提取满足均匀性的像素片段；滤波模式确定单元，通过考虑提取的像素片段的大小确定与滤波方向相应的滤波模式；方向向量确定单元，考虑滤波模式确定应用到与块边界相邻的像素的方向向量；和像素片段滤波单元，根据滤波方向对与块边界相邻的像素片段的整个区域滤波。 | ||
| 搜索关键词： | 效应 去除 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种块效应去除系统，包括:像素片段提取单元，对于与图像的块边界相邻的每一像素组提取满足均匀性的像素片段；滤波模式确定单元，通过考虑提取的像素片段的大小确定与滤波方向相应的滤波模式；方向向量确定单元，考虑滤波模式确定应用到与块边界相邻的像素的方向向量；和像素片段滤波单元，根据滤波方向对与块边界相邻的像素片段的整个区域滤波。
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