[发明专利]耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或光量调节装置无效

专利信息
申请号: 200810006295.8 申请日: 2008-02-05
公开(公告)号: CN101285900A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 阿部能之;小野胜史;冢越幸夫 申请(专利权)人: 住友金属矿山株式会社
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G03B9/02;G02B26/02
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或者光量调节装置。该耐热遮光片作为数码照相机、数码摄像机的镜头快门等的快门叶片或光圈叶片或者投影仪的光量调节装置的光圈叶片等光学仪器部件使用,遮光性、耐热性、滑动性、低光泽性、导电性优良。该耐热遮光片的特征在于:包括具有155℃以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)一面或两面上形成的结晶性金属碳化物膜(MeC),遮光膜(B)厚度为100nm以上,表面粗糙度为0.1~2.1μm(算术平均高度Ra),且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上。
搜索关键词: 耐热 遮光 及其 制造 方法 以及 采用 光圈 调节 装置
【主权项】:
1.一种耐热遮光片,其特征在于它是包括具有155℃以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)一面或两面上形成的结晶性金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片,遮光膜(B)厚度为100nm以上,表面粗糙度以算术平均高度Ra计为0.1~2.1μm,且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上。
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