[发明专利]红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200810007837.3 | 申请日： | 2008-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101231352A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 张树玉;黎建明;苏小平;杨海;郝鹏;王宏斌;余怀之;刘伟 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/00;C23C16/513;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱印康 |
| 地址： | 100088北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种HfON/BP红外光学增透保护膜及其制备工艺。该膜系可用作3～5μm、8～12μm波段红外光学窗口的增透保护膜，其结构为BP膜为内层膜，沉积于光学窗口表面，HfON膜为外层膜，沉积于BP膜上。BP膜的沉积采用射频等离子体增强CVD技术，HfON膜的沉积采用反应磁控溅射沉积工艺。在光学窗口表面沉积HfON/BP双层膜后，对窗口有增透作用，并可显著提高其表面硬度、改善其耐磨性和防腐蚀性，提高其抗雨蚀、砂蚀及盐雾腐蚀的能力，保证其在恶劣工作环境下正常工作。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 光学 窗口 hfon bp 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜，包括基片，其特征是在基片表面顺次沉积有BP膜和HfON膜。
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