[发明专利]SrTiO3膜的成膜方法无效

专利信息
申请号: 200810008828.6 申请日: 2008-01-24
公开(公告)号: CN101231952A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 河野有美子;柿本明修;门仓秀公;东慎太郎 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/316 分类号: H01L21/316;H01L21/8242;C23C16/40;C23C16/52
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种在处理容器内配置基板,对基板加热,将气态的Ti原料、气态的Sr原料和气态的氧化剂导入处理容器内,从而在基板上形成SrTiO3膜的SrTiO3膜的成膜方法。使用Sr(C5(CH3)5)2作为Sr原料。该方法依次进行如下工序:将气态的Ti原料导入处理容器内,使其吸附在基板上的工序;将气态的氧化剂导入处理容器内,分解被吸附的Ti原料,形成含Ti氧化膜的工序;将气态的Sr原料导入处理容器内,使其吸附在上述含Ti氧化膜上的工序;和将气态的氧化剂导入处理容器内,分解被吸附的Sr原料,形成含Sr氧化膜的工序,将这些工序作为1个循环,重复进行多个循环。
搜索关键词: srtio sub 方法
【主权项】:
1.一种SrTiO3膜的成膜方法,其特征在于:其是在处理容器内配置基板,对基板加热,将气态的Ti原料、气态的Sr原料和气态的氧化剂导入所述处理容器内,从而在基板上形成SrTiO3膜的SrTiO3膜的成膜方法,其中,使用Sr(C5(CH3)5)2作为所述Sr原料,并且,依次进行如下工序:将所述气态的Ti原料导入所述处理容器内,使其吸附在基板上的工序;将所述气态的氧化剂导入所述处理容器内,分解被吸附的Ti原料,形成含Ti氧化膜的工序;将所述气态的Sr原料导入所述处理容器内,使其吸附在所述含Ti氧化膜上的工序;和将所述气态的氧化剂导入所述处理容器内,分解被吸附的Sr原料,形成含Sr氧化膜的工序,将这些工序作为1个循环,重复进行多个循环,将在各循环中形成的薄膜叠层,从而在基板上形成具有规定厚度的SrTiO3膜。
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