[发明专利]致密氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷的制备方法无效
申请号: | 200810010295.5 | 申请日: | 2008-01-31 |
公开(公告)号: | CN101497524A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 戴文斌;于景坤;王新丽 | 申请(专利权)人: | 戴文斌;于景坤;王新丽 |
主分类号: | C04B35/48 | 分类号: | C04B35/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110004辽宁省沈阳市和*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是一种制备致密氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷的方法。利用氧化镁作为稳定剂,采用共沉淀法引入三氧化二铝,二氧化硅,氧化钙等添加物,合成纳米级/亚微米级粉末;然后利用液相烧结在较低温度下加热制得致密的氧化锆陶瓷材料。本发明的主要特点是能够精确控制稳定剂和各种添加剂的含量,使它们非常均匀的分散,而且合成粉末的粒度均匀,粒径小;在较低的烧结温度条件下,能够获得致密性良好的烧结体。本方法工艺简单,设备投资少,有利于工业化大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 致密 氧化镁 部分 稳定 氧化锆 陶瓷 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种制备致密氧化镁部分稳定氧化锆陶瓷的方法,包括添加剂的种类,引入方法以及添加量。其特征在于:1)添加剂的种类:各种含铝、硅、钙等元素的物质,且它们溶解于水后呈中性或者酸性。如Al(NO3)3·9H2O、Ca(NO3)2·4H2O、AlCl3、Na2SiF6或者CaCl2等。2)添加剂引入方法:在共沉淀法合成纳米级/亚微米级粉体的过程中,加入各种添加剂,使它们均匀分散。3)添加量:要求添加剂各元素的氧化物在烧结体中的摩尔百分含量分别为Al2O3:0-6%,SiO2:0-5%;CaO:0-5%.
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戴文斌;于景坤;王新丽,未经戴文斌;于景坤;王新丽许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810010295.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:重质劣质原油深度电脱盐技术
- 下一篇:激光切割装置