[发明专利]一种提高微电铸铸层尺寸精度的方法有效

专利信息
申请号: 200810013324.3 申请日: 2008-09-20
公开(公告)号: CN101413138A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 刘冲;杜立群;李苗苗;施维枝;刘军山;梁军生 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C25D1/10 分类号: C25D1/10;G03F7/00;B81C1/00
代理公司: 大连理工大学专利中心 代理人: 关慧贞
地址: 116024辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明一种提高微电铸铸层尺寸精度的方法,属于微制造技术领域,特别涉及微电铸金属模具的尺寸精度的控制方法。该方法包括掩膜版设计和模具制作工序,针对SU-8厚胶、图形密集、复杂的微电铸工艺,设计掩膜版时,在相对较窄的单个或多个相互独立的掩膜图形四周增设一条或多条相对较宽、封闭或不封闭且等间距或不等间距的隔离带,隔离带宽度的具体尺寸根据实际情况设计。针对掩膜图形相对较窄并呈中空结构的微电铸,在掩膜图形外围和中间对应增设一条或多条相对较宽、封闭或不封闭且等间距或不等间距的外隔离带和内隔离带。本方法改善了胶模的热溶胀性,阻止了隔离带外围胶模的热溶胀对铸层尺寸的影响,从而提高了微电铸镍铸层的尺寸精度。
搜索关键词: 一种 提高 电铸 尺寸 精度 方法
【主权项】:
1、一种提高微电铸铸层尺寸精度的方法,包括掩膜版设计和模具制作工序,其特征是,针对SU-8厚胶、图形密集、复杂的微电铸工艺,设计掩膜版时,在相对较窄的单个或多个相互独立的掩膜图形(1)四周增设一条或多条相对较宽、封闭或不封闭且等间距或不等间距的隔离带(2),隔离带宽度d3具体尺寸根据实际情况设计;模具制作工序中,具体工艺步骤如下:(1)甩胶:在镍基底(6)上涂敷SU-8胶(7);(2)曝光:采用紫外线(9)曝光和套刻工艺,实现掩膜版(8)的图形转移;(3)显影:采用SU-8胶显影液显影,得到包含图形沟道(a)的微电铸母模和隔离沟道(b);(4)密封:将显影后的隔离沟道(b)均匀灌以填充物并封严,形成封闭的填充物隔离带(10),这样在微电铸时,该隔离带可以有效阻止口字形胶模(5)的热溶胀对微电铸铸层尺寸的影响,从而保证了叉指状胶膜(4)不同位置的热溶胀度趋于一致,提高了铸层的尺寸精度;(5)微电铸:镍的微电铸就是在微电铸母模的图形沟道(a)中实现镍铸层(12)的电沉积;(6)去胶:采用SU-8胶去胶液去除SU-8胶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810013324.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top