[发明专利]高纯负离子远红外多功能陶瓷釉料添加剂的制作工艺在审

专利信息
申请号: 200810016474.X 申请日: 2008-06-06
公开(公告)号: CN101328082A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 牛崇光;牛振 申请(专利权)人: 牛崇光
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 256410山东省淄博市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 高纯负离子远红外多功能陶瓷釉料添加剂的制作工艺,属于陶瓷原料的制备领域。其特征在于按如下工艺步骤进行:将含有崇光石的高纯负离子远红外多功能添加剂放入梭式窑中,在温度为1100℃-1300℃的环境下进行3-5小时高温焙烧改性,降温至常温后取出,最后转换成高纯负离子远红外多功能生态抗菌保健陶瓷釉料添加剂。本发明能使陶瓷釉面光洁度更佳,自洁性能更强,因含有高纯负离子远红外多功能添加剂,可使陶瓷表面永久释放负离子,祛除室内苯、甲醛、氨气、TDI或有机挥发物,以及烟味、臭味等有害气体和异味;本发明能够使各种陶瓷更具多功能性,釉面更加光嫩如玉,身价倍增。
搜索关键词: 高纯 负离子 红外 多功能 陶瓷 釉料 添加剂 制作 工艺
【主权项】:
1.高纯负离子远红外多功能陶瓷釉料添加剂的制作工艺,其特征在于按如下工艺步骤进行:将含有崇光石的高纯负离子远红外多功能添加剂放入梭式窑中,在温度为1100℃-1300℃的环境下进行3-5小时高温焙烧改性,降温至常温后取出,最后转换成高纯负离子远红外多功能生态抗菌保健陶瓷釉料添加剂。
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